
ЖК-РЧ плазменное оборудование
Радиочастотное плазменное оборудование для ЖК-дисплеев — это высокопроизводительная-система, разработанная для обработки поверхности ЖК-, OLED-дисплеев и других материалов для плоских дисплеев. Он разработан с учетом строгих требований современного производства, где одинаково важны стабильность обработки и высокая производительность. Габариты всей системы составляют 880×790×1710 мм, размеры вакуумной камеры — 450×450×450 мм. Размер каждой электродной пластины составляет 410 × 430 мм, и за один цикл можно обрабатывать до пяти слоев подложек одновременно.
Описание продукции
Радиочастотное плазменное оборудование для ЖК-дисплеев — это высокопроизводительная-система, разработанная для обработки поверхности ЖК-, OLED-дисплеев и других материалов для плоских дисплеев. Он разработан с учетом строгих требований современного производства, где одинаково важны стабильность обработки и высокая производительность. Габариты всей системы составляют 880×790×1710 мм, размеры вакуумной камеры — 450×450×450 мм. Размер каждой электродной пластины составляет 410 × 430 мм, и за один цикл можно обрабатывать до пяти слоев подложек одновременно.
С функциональной точки зрения оборудование имеет-удобный интерфейс пользователя, который позволяет напрямую регулировать ключевые параметры процесса, такие как выходная ВЧ-мощность, продолжительность вакуумной откачки, отдельные сегменты обработки и скорость потока газа. Эти настройки можно быстро изменить для адаптации к различным материалам или требованиям процесса, обеспечивая гибкость и согласованность для промышленных операций.

Система подачи газа поддерживает три независимых канала и может работать с азотом (N₂), аргоном (Ar), водородом (H₂) и кислородом (O₂). Расходомеры калибруются в диапазоне 0–200 мл/мин, при этом точность регулирования не превышает 5%. Все основные пневматические компоненты поставляются компанией SMC, а уплотнение камеры обеспечивается прочными прокладками из фтор-каучука, что обеспечивает долгосрочную-стабильность в сложных условиях эксплуатации. Плазма генерируется с помощью самоадаптивного радиочастотного источника питания, работающего на частоте 13,56 МГц и максимальной мощности 1 кВт, гарантирующего надежную подачу энергии для равномерной обработки.
Конструктивно камера изготовлена из нержавеющей стали высокой-чистоты 304, что позволяет свести к минимуму окисление и коррозию. В системе используется конструкция с двойным-уплотнением для обеспечения целостности вакуума, а медные держатели электродов в задней части камеры фиксируют горизонтальные электродные пластины с помощью нескольких винтовых замков, улучшая стабильность и передачу энергии. Дополнительные боковые опоры дополнительно укрепляют электроды. Вакуумный баланс был оптимизирован: быстродействующий-клапан позволяет выравнивать давление в течение 5–10 секунд, сокращая время простоя и повышая производительность.
Для обеспечения эксплуатационной безопасности машина оснащена системой сигнализации неисправностей. Он регистрирует дату, время и причину любого аномального события, а также срабатывает автоматическое отключение для защиты камеры и заготовок.
С точки зрения применения это оборудование широко используется в процессах неполного заполнения флип-чипа. Плазменная очистка перед заливкой значительно усиливает активацию поверхности, улучшает смачиваемость и адгезию между подложкой и герметиком. В результате это не только улучшает качество упаковки, но и повышает долгосрочную-надежность современных дисплеев и полупроводниковых сборок.
горячая этикетка : жидкокристаллическое плазменное оборудование, производители жидкокристаллического плазменного оборудования в Китае, завод
Отправить запрос







